生产集成电路芯片需要高度专业化的设备,可在多重苛刻环境下工作,如:
真空环境下的等离子
高温
与高度研磨液接触
暴露于多种高腐蚀性化学品
与石英和陶瓷等传统材料相比,三菱化学高新材料(Mitsubishi Chemical Advanced Materials EPP)已研发出多种材料,既满足了晶圆低污染加工的严格要求,又是低成本的解决方案。我们的材料被设计用于整个晶圆加工制程。
准确复制任何地区可用的材料
广泛的材料选择、工程支持和测试能力
机加工能力,支持仿真系统NPI应用发展
材料组合广泛,专设计用于湿制程工具
CMP环材料的制造商,包括Techtron® PPS(CMP应用)
用于刻蚀、CVD和离子植入等干式制程工具的材料,可降低成本和提高性能
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此页内容摘自https://www.mcam.com/zh/行业应用/半导体与电子/